最適なノズル配置とバルブ制御による蒸着速度安定化により、静止成膜でありながら高面内均一性や高材料利用効率を実現しています。
また、3源までの共蒸着や傾斜膜の蒸着もできます。

面蒸発源の開発で培った技術をベースに製品化しました。 設計の自由度も高く、蒸着方向も選びません。液体材料の溶媒飛ばし機構も追加することもできます。

有機デバイスにおける有機膜上への金属材料や無機材料を成膜する蒸発源です。低X線量化と独自の反射電子トラップ機構を採用し、るつぼの断熱化により、低温での高速の成膜が可能です。従来の抵抗加熱と同等レベルの素子特性が得ることができます。
また、材料の自動供給機構を組み合わせることで、100時間の連続成膜ができます。

高い材料利用効率でターゲットの交換頻度を低減でき、高い冷却効果による高速成膜もできます。

独自開発のATV機構は、大気から真空へフィルムの連続搬送を実現します。（異なる真空領域の差圧制御にも使えます。）本機構により、真空装置の高稼働率を維持し、生産性向上に大きく寄与します。